PVD真空电镀工艺的特点

PVD真空电镀工艺的特点：

1.真空镀膜、PVD电镀、真空镀膜层的特性：
PVD真空镀膜技术可在产品表面形成金属光泽的外观、颜色均匀一致、耐久的表面，在各种基本的的空气和直射阳光环境条件下保持良好外观。颜色深韵、光亮、经济，可减少清洗和擦亮颜色所必须的时间和成本对环境友好无害，无化学中毒的风险，具备广泛的生物兼容性；

2.PVD真空镀膜层的特性：
PVD真空镀膜具有卓越的附着力：可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落（PVD镀膜具有很高附着力和耐久力）。其它的技术，包括水电镀，喷涂都不能与其相比。可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案、可以使用在内装修或者室外抗氧化，抗腐蚀的场合中；

3.PVD膜层的抵抗力：
PVD真空镀膜层具有耐腐蚀，化学性能稳定、抗酸；在常规环境下，户内或者户外，都具有抗氧化、不褪色、不失去光泽且不留下痕迹等优异的特点；正常的使用情况下不会破损。不褪色、容易清除油漆和笔迹；在强烈的阳光、高盐的湿地和城市环境下，都不会失去光泽，抗氧化，不褪色，不脱落、不爆裂；PVD真空镀膜层颜色种类丰富，表面细腻光滑，富有金属光泽，永不褪色。在烈日、潮湿等恶劣环境中镀膜层不变色、不脱落，性能稳定。高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤、可镀材料广泛，与基材附着结合力比较强；

4.环保工艺：
PVD高真空离子镀膜技术——对人体和地球生态环境真正友好，越来越多的应用到现代工业制造用途；

PVD真空电镀工艺的特点

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